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J-GLOBAL ID：200903082035009886

洗浄方法及びその装置

Inventor： 芳賀 良一 ,  新田 三知代 ,  馬場 研二
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994257851
Publication number (International publication number)：1996117708
Application date： Oct. 24, 1994
Publication date： May. 14, 1996
Summary：

【要約】【目的】医薬品,食品製造設備の洗浄で、効率良く洗浄できる洗浄装置及び洗浄方法を提供する。【構成】オゾン溶解槽2で調製したオゾン溶解水を洗浄の対象物50に注入して汚れ成分と反応させ、汚れの剥離と溶解を行わせ、洗浄液調製槽13の水に酸性洗浄液貯槽5の酸性洗浄剤、又はアルカリ性洗浄液貯槽のアルカリ性洗浄剤を添加し熱交換器14で加熱して調製した洗浄液を洗浄の対象物50に注入して付着した汚れに接触させ、これを膨潤,剥離および溶解して除去し、使用した洗浄剤を精製水を通じて除去して洗浄する。

Claim (excerpt)：

配管,弁,タンクより構成される容器の内部を洗浄する方法において、洗浄液としてオゾン溶解水を用いる第一工程,洗浄液として酸,アルカリ,界面活性剤の一種又は二種以上を溶解せしめた液を用いる第二工程,前記第二工程にて使用した洗浄液を除去するために純水を用いて洗浄する第三工程からなることを特徴とする洗浄方法。