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J-GLOBAL ID：200903082047646164

シリケート質多孔体の製造方法

Inventor： 別府 義久 ,  近藤 新二
Applicant, Patent owner： 旭硝子株式会社 ,  ファインセラミックス技術研究組合
Agent (1)： 間山 進也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001091962
Publication number (International publication number)：2002284584
Application date： Mar. 28, 2001
Publication date： Oct. 03, 2002
Summary：

【要約】【解決課題】 気孔特性、強度特性に優れ、安価に製造できるシリケート質多孔体の製造方法を提供する。【解決手段】 粘土鉱物を分散媒を用いて分散液にする工程と、前記分散液中に溶解する気体を除去し、前記分散液を凍結し、凍結状態のまま減圧下で乾燥する工程と、乾燥して得られた乾燥体を焼成する工程とを、含むシリケート質多孔体の製造方法を用いる。

Claim (excerpt)：

粘土鉱物を分散媒を用いて分散液にする工程と、前記分散液中に溶解する気体を除去する工程と、前記分散液を凍結し、凍結状態のまま減圧下で乾燥する工程と、乾燥して得られた乾燥体を焼成する工程とを、含むシリケート質多孔体の製造方法。

IPC (2)：

C04B 38/00 304 ,  B01J 20/12

FI (2)：

C04B 38/00 304 B ,  B01J 20/12 B

F-Term (9)：

4G066AA22A ,  4G066AA22B ,  4G066AA63A ,  4G066AA63B ,  4G066BA22 ,  4G066BA25 ,  4G066FA03 ,  4G066FA14 ,  4G066FA22