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J-GLOBAL ID：200903082061701917

旋回流型大気圧プラズマ処理装置

Inventor： 佐伯 登 ,  後藤 公爾
Applicant, Patent owner： パール工業株式会社
Agent (1)： 鈴江 孝一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999235299
Publication number (International publication number)：2001060499
Application date： Aug. 23, 1999
Publication date： Mar. 06, 2001
Summary：

【要約】【課題】 イオンや電子によるダメージを生じることなく、化学的に活性な中性励起種を最大限有効に活用して被処理物表面を高品質かつ効率よく、しかも、省電力、少ガス量のもとで経済性有利に全面均質に処理できるようにする。【解決手段】 平板状の高圧電極1とパンチングメタル利用の接地電極6とを絶縁体5を挟んで対向配置して両電極1,6間に微小間隙からなる放電部4を形成し、この放電部4に電極1,6の外周部に形成した複数のスリット状ガス供給孔14A...を通して混合反応ガスを旋回流が形成されるように供給することにより、高周波電圧の印加に伴い発生されるグロー放電プラズマにより混合反応ガスを励起分解して化学的に活性な中性励起種を含むガス流を生成し、このガス流を接地電極6全面の多数のガス流噴出孔3...を通して放電部4の外部に対向配置された被処理物の表面に照射させるように構成している。

Claim (excerpt)：

平板状の高圧電極とその全面に多数のガス流噴出孔を有する平板状の接地電極とを絶縁体を挟んで対向配置して両電極間に微小間隙からなる放電部が形成されていると共に、上記平板状電極の外周部でその周方向に間隔を隔てた複数箇所には、上記放電部となる微小間隙に向けて不活性ガスと酸素またはフルオロカーボン系の含フッ素化合物ガスを含む反応性気体との混合反応ガスを大気圧もしくは大気圧近傍圧力下で微小間隙内に旋回流が形成されるように噴出するスリット状ガス供給孔が設けられてなり、上記両電極に高周波電圧を印加して放電部にグロー放電プラズマを発生させることにより微小間隙に供給された混合反応ガスを分解して化学的に活性な中性励起種を含むガス流を生成し、この化学的に活性な中性励起種を含むガス流を上記接地電極の多数のガス流噴出孔より噴出させることにより、上記放電部の外部に対向配置された被処理物の表面に照射させるように構成していることを特徴とする旋回流型大気圧プラズマ処理装置。

IPC (2)：

H05H 1/24 ,  B01J 19/08

FI (3)：

H05H 1/24 ,  B01J 19/08 H ,  B01J 19/08 K

F-Term (11)：

4G075AA22 ,  4G075AA25 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075BD03 ,  4G075BD14 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EA02 ,  4G075EB41