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J-GLOBAL ID：200903082062758033

化粧料

Inventor： 坪根 和幸 ,  西尾 裕幸 ,  薬丸 雅史
Applicant, Patent owner： 鐘紡株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995135815
Publication number (International publication number)：1996301720
Application date： May. 08, 1995
Publication date： Nov. 19, 1996
Summary：

【要約】【目的】皮膚刺激が低く、界面活性能にすぐれる陰イオン界面活性剤を配合する化粧料の提供。【構成】特定の構造の2鎖2親水基含有陰イオン界面活性剤を配合する化粧料。

Claim (excerpt)：

一般式(1)【化1】(但し、式中のRCOの炭素数が20、18、16、14、12、10、8であり、Xがスルホン基部、硫酸基部、カルボキシル基部、リン酸基部のいずれかであり、Mが1価又は2価のアルカリ金属イオン、アンモニウムイオン、有機アンモニウムイオンである)で表される2疎水基2親水基含有陰イオン界面活性剤を配合することを特徴とする化粧料。

IPC (5)：

A61K 7/00 ,  A61K 7/06 ,  B01F 17/04 ,  B01F 17/14 ,  B01F 17/22

FI (5)：

A61K 7/00 C ,  A61K 7/06 ,  B01F 17/04 ,  B01F 17/14 ,  B01F 17/22