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J-GLOBAL ID:200903082067781645

ヒドロ-モノベンゾポルフィリン光増感剤を含有するリポソームの作成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山本 秀策
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1996534359
Publication number (International publication number):1999509834
Application date: Jul. 29, 1996
Publication date: Aug. 31, 1999
Summary:
【要約】リポソームを含有する薬学的組成物を作成する方法であって、リポソームは、ヒドロ-モノベンゾポルフィリン光増感剤、ならびに卵ホスファチジルグリセロール(「EPG」)およびジミリストイルホスファチジルコリン(「DMPC」)の混合物を含むリン脂質の治療的に受容可能な量を含有し、この方法は以下の工程を含む:a.光増感剤およびリン脂質を、モル比約1:7.0以上のリン脂質で、有機溶媒の存在下で組み合わせる工程;b.有機溶媒を除去して脂質膜を形成する工程;c.脂質膜を30°Cより低い温度で水溶液で水和して、光増感剤-リン脂質複合体を含有する粗製リポソームを形成する工程;およびd.粗製リポソームの粒子サイズを、約30°Cよりも低い温度で、約300nmより下の粒子サイズ範囲までホモジナイズまたは減少化させる工程。
Claim (excerpt):
リポソームを含有する薬学的組成物を作成する方法であって、該リポソームは、ヒドロ-モノベンゾポルフィリン光増感剤、ならびに卵ホスファチジルグリセロール(「EPG」)およびジミリストイルホスファチジルコリン(「DMPC」)の混合物を含むリン脂質の治療的に受容可能な量を含有し、該方法は以下の工程を含む: a.光増感剤およびリン脂質を、モル比約1:7.0以上のリン脂質で、有機溶媒の存在下で組み合わせる工程; b.該有機溶媒を除去して脂質膜を形成する工程; c.該脂質膜を30°Cより低い温度で水溶液で水和して、光増感剤-リン脂質複合体を含有する粗製リポソームを形成する工程;および d.該粗製リポソームの粒子サイズを、約30°Cよりも低い温度で、約300nmより下の粒子サイズ範囲までホモジナイズまたは減少化させる工程。
IPC (3):
A61K 31/40 610 ,  A61K 9/127 ,  A61K 47/30
FI (3):
A61K 31/40 610 ,  A61K 9/127 L ,  A61K 47/30 B
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)

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