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J-GLOBAL ID：200903082068515108

深紫外線フォトレジスト用の反射防止膜用コーティング組成物

Inventor： パドナマバン・ムニラツナ ,  ダムメル・ラルフ・アール ,  フィクナー・スタンレイ・エイ ,  オウバーランダー・ジョセフ・イー ,  サガン・ジョン・ピー
Applicant, Patent owner： クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド
Agent (1)： 江崎 光史 (外3名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000582851
Publication number (International publication number)：2002530696
Application date： Nov. 09, 1999
Publication date： Sep. 17, 2002
Summary：

【要約】本発明は、ポリマー、熱酸発生剤及び溶剤組成物を含む、新規の反射防止膜用コーティング組成物に関する。更に本発明は、フォトリソグラフィにこのような組成物を使用するための方法も含む。この組成物は約130nm (ナノメータ)〜約250nm の範囲の放射線を強く吸収する。

Claim (excerpt)：

以下の構造【化1】[式中、 Xは、CO2 、OまたはSO2 であり、そしてnは0または1であり、xは整数で あり、そしてyは0または整数であり、但しnが0の時は、yは整数であり 、 Rは、水素、ハロゲン、ニトロ、アルキル(C1-C4) 、アルコキシ(C1-C4) また はエステル(C1-C4) であり、そしてmは1〜4であり、 R1〜R7は、互いに独立して、水素、ハロゲン、アルキル(C1-C4) 、脂環式基、 アルコキシ(C1-C4) 、エステル(C1-C4) 、CO2 、( アルキル)OH 、CO2(アル キル)COCH2COCH3 であり、ここで更にR7及びR6は一緒になって、飽和した環 または無水物を形成する]を有するポリマー、架橋剤、熱酸発生剤及び溶剤を含む、フォトレジストのための反射防止膜を作るのに有用な組成物。

IPC (2)：

G03F 7/11 503 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/11 503 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 574

F-Term (9)：

2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AA11 ,  2H025AA17 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025DA34 ,  5F046PA07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 反射防止膜材料用組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-208631   Applicant：富士写真フイルム株式会社