Pat
J-GLOBAL ID：200903082074327399

硬化性組成物、硬化物およびそれらの製法

Inventor：
大内 克哉

About 大内 克哉


Applicant, Patent owner：
鐘淵化学工業株式会社

About 鐘淵化学工業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002123398
Publication number (International publication number)：2003321484
Application date： Apr. 25, 2002
Publication date： Nov. 11, 2003
Summary：
【要約】【課題】反応性が良好で容易に製造でき、貯蔵安定性が良好であり、かつ低粘度で作業性に優れる硬化性組成物、それを硬化させてなる硬化物、およびそれらの製造方法を提供することである。【解決手段】下記一般式(I)【化1】(式中R1は水素原子あるいはメチル基を表す。)で表される一価の基あるいは/および下記式【化2】で表される二価の基を1分子中に少なくとも1個含有し、かつ下記式【化3】で表されSiH基と反応性を有する二価の基を1分子中に少なくとも1個含有する有機化合物(A)と、1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する化合物(B)とを、ヒドロシリル化触媒(C)の存在下に部分的にヒドロシリル化反応させて得られる、SiH基と反応性を有する炭素-炭素二重結合およびSiH基を含有する硬化性組成物とすること。
Claim (excerpt)：
下記一般式(I)【化1】(式中R1は水素原子あるいはメチル基を表す。)で表される一価の基あるいは/および下記式【化2】で表される二価の基を1分子中に少なくとも1個含有し、かつ下記式【化3】で表されSiH基と反応性を有する二価の基を1分子中に少なくとも1個含有する有機化合物(A)と、1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する化合物(B)とを、ヒドロシリル化触媒(C)の存在下に部分的にヒドロシリル化反応させて得られる、SiH基と反応性を有する炭素-炭素二重結合およびSiH基を含有する硬化性組成物。
IPC (3)：
C07F 7/21 ,  C08G 77/20 ,  C07B 61/00 300
FI (3)：
C07F 7/21 ,  C08G 77/20 ,  C07B 61/00 300
F-Term (25)：
4H039CA93 ,  4H039CF10 ,  4H049VN01 ,  4H049VP04 ,  4H049VQ02 ,  4H049VQ05 ,  4H049VQ20 ,  4H049VQ79 ,  4H049VR22 ,  4H049VS02 ,  4H049VS20 ,  4H049VS79 ,  4H049VT17 ,  4H049VT30 ,  4H049VU17 ,  4H049VV02 ,  4J035BA02 ,  4J035CA01K ,  4J035CA13N ,  4J035EA01 ,  4J035LA02 ,  4J035LB01 ,  4J035LB02 ,  4J035LB03 ,  4J035LB17
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM