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J-GLOBAL ID：200903082080511886

レーザビームによるアブレーション装置

Inventor： 角谷 俊文
Applicant, Patent owner： 株式会社ニデック
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992061211
Publication number (International publication number)：1993220189
Application date： Feb. 14, 1992
Publication date： Aug. 31, 1993
Summary：

【要約】【目的】 本発明の目的は、製作の難しい光学素子や複雑な光学系も使用せずに、簡単な構成で均一な深さのアブレーションを行うことができる装置を提供することにある。【構成】 エキシマレ-ザのようにビーム断面の一方向が均一でそれと直交する方向がガウス分布等の不均一な強度分布を持ったレーザビームを、不均一な強度分布を持つ方向にスキャンする反射系光学素子を設けると共に、開口部の面積が制御可能な絞りを設けるように構成している。

Claim (excerpt)：

ビーム断面の一方向が均一でそれと直交する方向がガウス分布等の不均一な強度分布を持ったレーザビームにより対象物のある面積をアブレーションするレーザビームによるアブレーション装置において、前記レーザビームを対象物に導光するとともにレーザビームを不均一な強度分布を持つ方向にスキャンする反射系光学素子と、開口部の面積が制御可能な絞りと、を有することを特徴とするレーザビームによるアブレーション装置。

IPC (3)：

A61F 9/00 311 ,  A61B 17/36 350 ,  A61N 5/06