Pat

J-GLOBAL ID：200903082169445410

粒子解析装置

Inventor： 沼尻 泰幸
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 日比谷 征彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993261574
Publication number (International publication number)：1995092077
Application date： Sep. 24, 1993
Publication date： Apr. 07, 1995
Summary：

【要約】【目的】 血球細胞浮遊液に複数のレーザー光を照射し、退色の影響を受けずに精度よく多項目の粒子的性質の測定を行う。【構成】 フローセル1を流れる被検粒子Sに第3のビーム発生光源13から光ビームを照射し、発生する蛍光を第3及び第4の光検出器18、20により検出し、被検粒子Sの同定を行う。この同定結果に基づいて、第1の光検出器7による検出の必要がある場合は、この検出位置よりも下流の位置で、第1の光ビーム発生光源3からの光ビームB1をパルス状に照射し、発生する蛍光を第1の光検出器7により検出する。また、第1の検出位置より更に下流の位置で、第2の光ビーム発生光源8からの光ビームB2を照射し、発生する蛍光を第2の光検出器12により検出する。これらの測定結果を制御部21及び信号処理部23により解析し、被検粒子Sの多項目の粒子的性質の測定を行う。

Claim (excerpt)：

分離されて1個ずつ順次に流れる被検粒子の通過を検出し同定を行う同定手段と、被検粒子の通過を検出する位置よりも下流の位置で被検粒子に光ビームを照射する第1の光ビーム発生手段と、前記同定手段の結果に基づいて前記第1の光ビーム発生手段を制御する制御手段と、前記第1の光ビームの照射により被検粒子から発生する光を検出する第1の光検出手段と、前記第1の光ビームを照射する位置よりも更に下流の位置で被検粒子に第2の光ビームを照射する第2の光ビーム発生手段と、前記第2の光ビームの照射により被検粒子から発生する光を検出する第2の光検出手段と、前記同定手段の結果と前記第1及び第2の光検出手段から発生する信号に基づいて被検粒子の解析を行う信号処理手段とを有することを特徴とする粒子解析装置。

IPC (2)：

G01N 15/14 ,  G01N 21/64