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J-GLOBAL ID：200903082171986291

全反射蛍光X線分析装置

Inventor： 田村 浩一
Applicant, Patent owner： セイコー電子工業株式会社
Agent (1)： 林 敬之助
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993022801
Publication number (International publication number)：1994235706
Application date： Feb. 10, 1993
Publication date： Aug. 23, 1994
Summary：

【要約】【目的】 X線分光手段3により散乱されたX線が試料4に入射するのを防止することで、検出スペクトルのS/Nの向上をはかる。【構成】 X線源1から放射されたX線をX線分光手段3で分光し、微少な角度をもって試料支持体5の光学的に平滑な面に入射して、試料支持体5の光学的に平滑な面に位置する試料4からの蛍光X線をX線検出器によって検出する全反射蛍光X線分析装置において、X線源1からX線分光手段3を経て試料支持体5の光学的に平滑な面に至るX線経路にX線フィルター8を設置したので、X線分光手段3により散乱されて検出スペクトルにバックグラウンドとしてのる有害なX線が除去される。【効果】 X線フィルター8を適当に選ぶことにより、励起X線の強度をほとんど低減させることなく、バックグラウンドを大きく減衰させることができて、S/Nの良い測定が可能となり、検出下限を下げることができる。

Claim (excerpt)：

X線を放射するX線源と、前記X線を分光するX線分光手段と、前記分光されたX線を微少の角度をもって入射し、そして入射したX線を全反射し、勝つ試料を支持する試料支持体と、前記試料支持体の表面近傍に位置する試料から発生する蛍光X線を検出する検出器と、X線源からX線分光手段に至るX線経路に位置するX線フィルターを有することを特徴とする全反射蛍光X線分析装置。