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J-GLOBAL ID：200903082200090685

トリートメント装置

Inventor： 山▲崎▼ 岩男
Applicant, Patent owner： ヤーマン株式会社
Agent (1)： 須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003001548
Publication number (International publication number)：2004209102
Application date： Jan. 07, 2003
Publication date： Jul. 29, 2004
Summary：

【課題】美肌等を行うトリートメント装置において、複数種のトリートメントを効果的に行うことができるようにする。【解決手段】トリートメント装置1は、皮膚面に直接又は水溶性の有効成分を含む媒質を介して接触させるイオン導入電極6と、水溶性成分をイオン化させるための電圧をイオン導入電極6に印加するイオン導入/クレンジング回路31と、イオン導入電極6を接触させた部位の近傍の皮膚面にレーザダイオード18及びレンズ20を介してレーザ光を照射するレーザ駆動回路21と、これらの回路を切り替えて動作させる主制御回路17とを備える。したがって、トリートメント装置1では、レーザ光照射による美肌トリートメントとイオン導入による美肌トリートメントとを選択的に実施することができる。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

皮膚面に直接又は水溶性成分を含む媒質を介して接触させるイオン導入電極と、 前記イオン導入電極に水溶性成分をイオン化させるための電圧を印加する電圧印加手段と、 前記イオン導入電極を接触させた部位の近傍の皮膚面にレーザ光を照射するレーザ光照射手段と を具備することを特徴とするトリートメント装置。

IPC (2)：

A61N1/30 ,  A61N5/06

FI (2)：

A61N1/30 ,  A61N5/06 E

F-Term (7)：

4C053HH02 ,  4C053HH04 ,  4C082RA01 ,  4C082RC09 ,  4C082RL02 ,  4C082RL17 ,  4C082RL22

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• レーザトリートメント装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-121792   Applicant：ヤーマン株式会社
• 特許第3046282号
  
• 特許第2822349号