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J-GLOBAL ID：200903082205977106
基板処理装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
吉田 茂明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997167336
Publication number (International publication number)：1999016814
Application date： Jun. 24, 1997
Publication date： Jan. 22, 1999
Summary：
【要約】【課題】 装置全体の高さを低くすることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 装置が支柱50によって支持されることにより、装置の下面と床面Gとの間には間隔Sが存在する。ホールド用キャビネット49はキャビネット40の底部から装置の下面よりも下方に、すなわちホールド用キャビネット49の下端が間隔Sに存在するように突設されている。薬液瓶46をホールド用キャビネット49に収納することによって、装置の下面と床面Gとの間のスペースを有効に利用することができるとともに、薬液瓶46の高さ位置を従来よりも低くすることができ、キャビネット40の高さも低くすることができる。その結果、装置全体の高さも低くすることができる。
Claim (excerpt)：
床面に立設された支柱によって装置の下面が前記床面より所定の間隔を隔てて支持された基板処理装置において、(a) 前記装置の下面よりも上方に設けられ、基板に薬液を付与して薬液処理を行う薬液処理部と、(b) 前記薬液処理部よりも下方に設けられ、前記薬液処理部に薬液を供給するための薬液供給手段を収納する収納部と、を備え、前記収納部の一部が前記装置の下面よりも下方に突設して突設収納部とされているとともに、前記薬液供給手段の一部を前記突設収納部に収納することを特徴とする基板処理装置。
FI (2)：
H01L 21/30 569 A
, H01L 21/30 564 Z
