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J-GLOBAL ID：200903082220394397

光走査装置及びそれを用いた画像形成装置

Inventor： 下村 秀和
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 西山 恵三 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001394085
Publication number (International publication number)：2002277803
Application date： Dec. 26, 2001
Publication date： Sep. 25, 2002
Summary：

【要約】【課題】 500nm以下の短波長光源を用いた光走査装置において、絶対反射率が高く、波長依存性と角度依存性が少ない反射ミラーを用いた光走査装置を提供する。【解決手段】 半導体レーザー1からの発散光をコリメータレンズ2により略平行な光ビームに変換した後、絞り3により所望のスポット径に光束径を制限し、ポリゴンミラー5からの反射光を走査結像レンズ6及び7により、全走査域にわたって微小な光スポットに成形する。半導体レーザー1は窒化ガリウム系の半導体レーザーであり、その発振波長は408nmである。ポリゴンミラー5(反射鏡)は、その反射鏡の反射特性に寄与する金属膜の複素屈折率Nを、N(λ)=n(λ)-ik(λ)と定義したとき、k(λ)>√(-n(λ)2+18n(λ)-1)を満足する反射鏡を用いた。

Claim (excerpt)：

光源からの光ビームを偏向し、被走査面上に結像させる光走査装置において、前記光源の波長は500nm以下であり、この光源からの光ビームを反射する反射鏡を備え、この反射鏡の反射特性に寄与する金属膜の複素屈折率Nを、N(λ)=n(λ)-ik(λ) ただし、n,k>0n(λ):複素屈折率の実数部i=√-1k(λ):複素屈折率の虚数部(消衰係数)λ:波長と定義したとき、k(λ)>√(-n(λ)2+18n(λ)-1)を満足する反射鏡を用いたことを特徴とする光走査装置。

IPC (4)：

G02B 26/10 101 ,  G02B 26/10 ,  G02B 26/10 103 ,  B41J 2/44

FI (4)：

G02B 26/10 101 ,  G02B 26/10 D ,  G02B 26/10 103 ,  B41J 3/00 D

F-Term (10)：

2C362AA03 ,  2C362BA05 ,  2C362BA06 ,  2C362BA83 ,  2C362BA85 ,  2C362BA86 ,  2C362BA87 ,  2H045AA06 ,  2H045CA68 ,  2H045DA02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 光ビーム走査装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-128208   Applicant：富士写真フイルム株式会社