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J-GLOBAL ID：200903082237799889

積層磁性体膜の形成方法

Inventor： 米本 隆治 ,  真下 啓治 ,  海老沢 孝 ,  高橋 純三 ,  佐野 謙一 ,  宮川 亜夫
Applicant, Patent owner： 株式会社ライムズ
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991018878
Publication number (International publication number)：1993006834
Application date： Feb. 12, 1991
Publication date： Jan. 14, 1993
Summary：

【要約】【目的】本発明は、高飽和磁束密度、低保磁力の特性を有し、磁気ヘッドのコア材等に適した積層磁性膜の形成方法を提供しようとするものである。【構成】100〜500AのFe薄膜またはFeを主成分とする合金薄膜を成膜した後に前記薄膜の表面層にN2 プラズマまたはN2 イオンを照射して窒化し、10〜200Aの窒化層を形成する工程を繰り返すことを特徴としている。

Claim (excerpt)：

Fe薄膜またはFeを主成分とする合金薄膜を成膜した後に前記薄膜の表面層を窒化して窒化層を形成する工程を繰り返すことを特徴とする積層磁性体膜の形成方法。

IPC (5)：

H01F 41/14 ,  C23C 8/26 ,  C23C 14/18 ,  G11B 5/31 ,  H01F 10/26

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭61-141114
  
• 特開平2-263416