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J-GLOBAL ID：200903082247232879

リフトオフイメージングプロフィルを得る方法

Inventor： スパック・マーク・エイ ,  ダメル・ラルフ・アール ,  デプラド・マイケル
Applicant, Patent owner： クラリアント・インターナショナル・リミテッド
Agent (1)： 江崎 光史 (外2名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1997531775
Publication number (International publication number)：1999504446
Application date： Feb. 18, 1997
Publication date： Apr. 20, 1999
Summary：

【要約】以下の段階:a) プラズマで腐蝕可能な材料からなり、この際この材料が約0.5μm(マイクロメーター)よりも薄い膜厚を有する第一層を作り、b) 上記第一層の上表面にフォトイメージ可能な材料からなる第二層を作り、c) 上記第二層を選択的に露光しそして現像する段階によって、この第二層にパターンを形成し、d) 第二層を有機ケイ素材料と反応させ;そしてe) 酸素雰囲気中で第一層を等方性的に腐蝕する、ことを含むリフトオフイメージングプロフィルを得る方法。

Claim (excerpt)：

以下の段階:a) プラズマで腐蝕可能な材料からなり、この際この材料が約0.5μm(マイクロメーター)よりも薄い膜厚を有する第一層を作り、b) 上記第一層の上表面にフォトイメージ化可能な材料からなる第二層を作り、c) 上記第二層を選択的に露光しそして現像する段階によって、この第二層にパターンを形成し、d) 第二層を有機ケイ素材料と反応させ;そしてe) 酸素雰囲気中で第一層を等方性的に腐蝕する、ことを含むリフトオフイメージングプロフィルを得る方法。

IPC (4)：

G03F 7/26 513 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/38 512

FI (4)：

G03F 7/26 513 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/38 512