Pat

J-GLOBAL ID：200903082248289181

ジルコニア薄膜の製造方法

Inventor： 滝田 祐作 ,  石原 達己 ,  塩満 徹 ,  真部 保彦 ,  小川 高志
Applicant, Patent owner： 日本鋼管株式会社 ,  滝田 祐作
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994312333
Publication number (International publication number)：1996144092
Application date： Nov. 24, 1994
Publication date： Jun. 04, 1996
Summary：

【要約】【構成】部分安定化または安定化ジルコニア粒子を電荷を有する状態で溶媒中に分散させた懸濁液中に一対の電極を配置し、これら電極間に電界を印加して前記粒子を電気化学的作用により移動させることによってこれら粒子を電極上に堆積させる泳動電着によりジルコニア膜を製膜し、その後焼結して部分安定化または安定化ジルコニア薄膜を得る。【効果】泳動電着法を利用してジルコニア薄膜を形成するので、均一な厚みを有する極めて薄いジルコニア薄膜を歩留まり良く、しかも簡便な装置で製造することができる。

Claim (excerpt)：

部分安定化または安定化ジルコニア粒子を電荷を有する状態で溶媒中に分散させた懸濁液中に一対の電極を配置し、これら電極間に電界を印加して前記粒子を電気化学的作用により移動させることによってこれら粒子を電極上に堆積させる泳動電着によりジルコニア膜を製膜し、その後焼結して部分安定化または安定化ジルコニア薄膜を得ることを特徴とするジルコニア薄膜の製造方法。

IPC (5)：

C25D 13/02 ,  C01G 25/02 ,  C01G 51/00 ,  C25D 13/10 ,  H01M 8/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭58-081995
  
• 特開昭63-053296
  
• 特開昭48-008848
  
• 特開平2-030797