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J-GLOBAL ID：200903082268949137

反応室の制御方法と反応室の制御装置

Inventor： 楠元 寛史 ,  戸泉 厚
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 森本 義弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000011078
Publication number (International publication number)：2001202138
Application date： Jan. 20, 2000
Publication date： Jul. 27, 2001
Summary：

【要約】【課題】 反応室の圧力を短時間で目標圧力に制御できるとともに、反応ガスの使用量を低減できる反応室の制御方法と反応室の制御装置を提供する。【解決手段】 加工処理の内容に応じたガス流量と反応室圧力とを記憶する処理レシピ記憶手段7と、圧力制御手段の特性を表す演算式を記憶する演算式記憶手段8と、反応室1の圧力を調節する圧力制御手段を運転する演算手段11とを設ける。演算手段11は、反応ガス流量に対して反応室1の圧力が安定する調節位置を求める測定動作を圧力制御手段の特性を表す演算式の係数の数だけ実行して演算式を導出する導出手段と、演算式に処理レシピから読み出した反応ガス流量を代入して圧力制御手段の調節位置を求めた位置に設定する設定手段と、反応室圧力またはその近傍に反応室の圧力が近づいた時点から圧力制御手段を自動制御して反応室圧力に近づける制御手段とからなる。

Claim (excerpt)：

反応室で施す加工処理の内容に応じた反応ガス流量と反応室圧力を処理レシピから読み出して反応室を制御して加工処理を行うに際し、反応室圧力を制御する圧力制御手段についてガス流量に対して前記反応室の圧力が安定する調節位置を求める測定動作を、前記圧力制御手段の特性を表す演算式の係数の数だけ実行して前記圧力制御手段の演算式を導出し、処理レシピから読み出した反応ガス流量を前記演算式に代入して前記圧力制御手段の調節位置を求めた位置に設定し、処理レシピから読み出した反応室圧力またはその近傍の圧力に反応室の圧力が近づいた時点から前記圧力制御手段を制御して処理レシピから読み出した反応室圧力に近づける反応室の制御方法。

IPC (4)：

G05D 16/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  C23C 16/52

FI (4)：

G05D 16/00 Z ,  H01L 21/205 ,  C23C 16/52 ,  H01L 21/302 A

F-Term (30)：

4K030HA15 ,  4K030JA05 ,  4K030JA09 ,  4K030KA08 ,  4K030KA39 ,  4K030KA41 ,  4K030LA15 ,  4K030LA18 ,  5F004AA16 ,  5F004BC03 ,  5F004CA02 ,  5F004CA08 ,  5F045BB08 ,  5F045EE04 ,  5F045EE11 ,  5F045EG05 ,  5F045GB06 ,  5F045GB16 ,  5F045GB17 ,  5H316AA20 ,  5H316DD03 ,  5H316EE02 ,  5H316FF01 ,  5H316FF37 ,  5H316GG03 ,  5H316GG12 ,  5H316HH04 ,  5H316HH08 ,  5H316HH10 ,  5H316HH12