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J-GLOBAL ID：200903082277988404
マクロ孔及びミクロ孔が分散したシリカ多孔体及び製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
小倉 亘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993079480
Publication number (International publication number)：1994293574
Application date： Apr. 06, 1993
Publication date： Oct. 21, 1994
Summary：
【要約】【目的】 高次の規則性でミクロ孔が配列し、且つ大口径のマクロ孔を有するシリカ多孔体を得る。【構成】 両親媒性物質及びアルコキシシラン物質を含む混合分散液を凍結乾燥させ、両親媒性物質が形成する分子組織体の微細構造を倣ったミクロ孔,溶媒中における両親晩成物質の分散状態を倣ったマクロ孔を有するシリカ多孔体を得る。【作用】 溶媒中で両親媒性物質が形成した分子組織体がアルコキシシラン物質の三次元加工反応で固定され、規則性の高い微細構造をもったシリカ多孔体となる。
Claim (excerpt)：
両親媒性物質の微細構造を倣ったミクロ孔と、溶媒中における前記両親媒性物質の分散状態を倣ったマクロ孔とを有するシリカ多孔体。
IPC (6)：
C04B 38/00 304
, B01J 20/10
, B01J 21/08
, C01B 33/16
, C03B 8/02
, C03B 20/00
