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J-GLOBAL ID：200903082298277273

有機-無機ハイブリッド低融点ガラスに含有させた金属イオンの還元方法

Inventor：
早川 直也

About 早川 直也

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横尾 俊信

About 横尾 俊信

, 
高橋 雅英

About 高橋 雅英

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新居田 治樹

About 新居田 治樹


Applicant, Patent owner：
セントラル硝子株式会社

About セントラル硝子株式会社


Agent (1)： 西 義之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002122772
Publication number (International publication number)：2003313048
Application date： Apr. 24, 2002
Publication date： Nov. 06, 2003
Summary：
【要約】【課題】高温で加熱するための特殊な設備を用いることなく、低温でガラス中に含有した金属イオン、例えば価数が変わることによって光記憶材料として使用できる可能性がある希土類金属イオンを還元する。【解決手段】出発原料としてアルキルクロロシラン(RxSiCl4-x)および亜リン酸(H3PO3)あるいはホウ酸H2BO3などを出発原料とし、さらに塩化スズ等の金属塩化物を共存させて反応させ、有機-無機ハイブリッド低融点ガラスを合成する際に起こる、亜リン酸の不均化反応を利用して、180°C以上に加熱することで含有イオンを還元する。
Claim (excerpt)：
アルキルクロルシランと亜リン酸を加熱反応させ有機-無機ハイブリッド低融点ガラスを製造する過程で180°C以上に加熱し、亜リン酸の不均化反応を利用して含有させた金属イオンを還元する方法。
IPC (3)：
C03C 6/06 ,  C03C 4/00 ,  C03C 4/12
FI (3)：
C03C 6/06 ,  C03C 4/00 ,  C03C 4/12
F-Term (75)：
4G062AA01 ,  4G062AA04 ,  4G062AA18 ,  4G062BB01 ,  4G062BB09 ,  4G062BB20 ,  4G062CC00 ,  4G062CC10 ,  4G062DA05 ,  4G062DB01 ,  4G062DC01 ,  4G062DD04 ,  4G062DE01 ,  4G062DF01 ,  4G062EA01 ,  4G062EA10 ,  4G062EB01 ,  4G062EC01 ,  4G062ED01 ,  4G062EE01 ,  4G062EF01 ,  4G062EG01 ,  4G062FA01 ,  4G062FB01 ,  4G062FB02 ,  4G062FC01 ,  4G062FD01 ,  4G062FE05 ,  4G062FF01 ,  4G062FF02 ,  4G062FG01 ,  4G062FH01 ,  4G062FJ01 ,  4G062FK01 ,  4G062FL01 ,  4G062FL02 ,  4G062GA01 ,  4G062GA10 ,  4G062GB01 ,  4G062GC01 ,  4G062GD01 ,  4G062GE01 ,  4G062HH01 ,  4G062HH03 ,  4G062HH04 ,  4G062HH05 ,  4G062HH07 ,  4G062HH08 ,  4G062HH09 ,  4G062HH10 ,  4G062HH11 ,  4G062HH12 ,  4G062HH13 ,  4G062HH15 ,  4G062HH17 ,  4G062HH20 ,  4G062JJ02 ,  4G062JJ03 ,  4G062JJ06 ,  4G062JJ07 ,  4G062KK01 ,  4G062KK02 ,  4G062KK03 ,  4G062KK04 ,  4G062KK05 ,  4G062KK06 ,  4G062KK07 ,  4G062KK08 ,  4G062KK10 ,  4G062MM04 ,  4G062MM40 ,  4G062NN01 ,  4G062NN20 ,  4G062NN40 ,  4G062PP12
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)

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