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J-GLOBAL ID：200903082349373302
排ガス浄化触媒、その製造方法及び排ガス浄化方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
内田 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992233262
Publication number (International publication number)：1994079180
Application date： Sep. 01, 1992
Publication date： Mar. 22, 1994
Summary：
【要約】【目的】 窒素酸化物、一酸化炭素、炭化水素を含有する排気を浄化する触媒、その製造方法及び排ガスの浄化方法に関する。【構成】 脱水された状態において、酸化物のモル比で表わして、(1±0.6)R2 O・〔a・M2 O3 ・b・Al2 O3 ・c・MeO〕・ySiO2 (上記式中、Rはアルカリ金属イオン及び/又は水素イオン、MはVIII族金属、希土類金属、チタン、バナジウム、クロム、ニオブ、アンチモン、ガリウムから選ばれた1種以上の金属、Meはアルカリ土類金属、a≧0、b≧0、c≧0、a+b=1、y/c>12、y>12)の化学式を有し、特定のX線回折パターンを有する結晶性シリケートを担持させてスチームにより変成させてなる排ガス浄化触媒。
Claim (excerpt)：
脱水された状態において、酸化物のモル比で表わして(1±0.6 )R2 O・〔a・M2 O3 ・b・Al2 O3 ・c・MeO〕・ySiO2 (上記式中、Rはアルカリ金属イオン及び/又は水素イオン、MはVIII族金属、希土類金属、チタン、バナジウム、クロム、ニオブ、アンチモン、ガリウムからなる群から選ばれた1種以上の金属、Meはアルカリ土類金属、a≧0、b≧0、c≧0、a+b=1、y/c>12、y>12)の化学式を有し、かつ本文で詳記する表1で示されるX線回折パターンを有する結晶性シリケートに銅を担持させてスチームにより変成させてなることを特徴とする排ガス浄化触媒。
IPC (2)：
B01J 29/04
, B01D 53/36 104
Cited by examiner (7)
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