流体の密度測定装置および半導体製造装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：大日方富雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994045774
Publication number (International publication number)：1995253373
Application date： Mar. 16, 1994
Publication date： Oct. 03, 1995
Summary：

【要約】【目的】大気圧から高真空までの幅の広い圧力変化を測定することができる流体の密度測定装置を提供する。【構成】圧力測定装置10は、該検出器15によって検出された光量が一定値となるように、検出器位置調整機構31によって光量検出器15が移動し、当該移動量に基いて演算制御装置21が試料室12内の圧力を演算する。又、圧力測定装置10では、レーザ光の焦点位置が、検出器15の可動範囲を越えたときには、最大の移動量に基いて圧力を算出しておき、これを当該可動範囲内で検出される光量の最大値と焦点位置での光量との差に基いて修正するように構成されている。

Claim (excerpt)：

流体が導入される試料室と、該試料室内に測定光を照射する光源と、上記試料室内に設置され、該試料室内を通過する測定光を集束させるレンズと、上記集束された測定光の光量を検出する光量検出器と、該光量検出器によって検出された光量に基いて上記試料室内の流体の密度を演算する演算手段とを具えてなることを特徴とする流体の密度測定装置。

IPC (4)：

G01L 11/00 , G01N 9/24 , G01N 21/41 , H01S 3/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平1-112138
特開平3-194448
特開平4-168308

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