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J-GLOBAL ID：200903082387110820

露光装置および露光方法

Inventor： 小久保 文雄 ,  関本 芳宏 ,  倉田 幸夫
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社
Agent (3)： 原 謙三 ,  木島 隆一 ,  金子 一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003045065
Publication number (International publication number)：2004252375
Application date： Feb. 21, 2003
Publication date： Sep. 09, 2004
Summary：

【課題】液晶等の周期的な露光パターンを有する大面積基板を高速に露光が可能であり、簡単な構成の露光装置および露光方法を提供する。【解決手段】本発明の露光装置は、複数の半導体レーザ2と、半導体レーザ2からのレーザ光を露光すべきガラス基板4上に集光させる集光光学系3と、ガラス基板4を載置するXYZステージ5と、レーザアレイ回転部13を備えており、集光光学系3により集光された集光点を、ガラス基板4上で走査させることにより露光を行う。半導体レーザ2は等間隔に固定して配列されおり、レーザアレイ回転部13によってレーザアレイ1を回転してガラス基板4の走査方向に対するレーザアレイ1の角度を変化させることにより、半導体レーザ2の間隔を調整することなく露光パターンに応じた露光ピッチに調整する。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

複数の光源からの光を基板に照射して基板を露光する露光装置において、 光源が等間隔に固定して配列された光源アレイと、光源アレイからの出射光を基板に集光する光学系と、露光パターンが格納された露光データに応じて露光ピッチを調整する露光ピッチ可変手段を備えていることを特徴とする露光装置。

IPC (2)：

G03F7/22 ,  H01L21/027

FI (2)：

G03F7/22 Z ,  H01L21/30 529

F-Term (10)：

2H097AA13 ,  2H097AB05 ,  2H097CA03 ,  2H097CA17 ,  2H097LA12 ,  5F046BA07 ,  5F046CA03 ,  5F046CB14 ,  5F046CB22 ,  5F046CB27