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J-GLOBAL ID：200903082400308405

マスク洗浄機

Inventor： 石井 博行
Applicant, Patent owner： 山形日本電気株式会社
Agent (1)： 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992045120
Publication number (International publication number)：1993241329
Application date： Mar. 03, 1992
Publication date： Sep. 21, 1993
Summary：

【要約】【目的】レチクル洗浄機における洗浄歩留の改善と洗浄時間の短縮。【構成】レチクル上の異物を検査する検査室3と異物分析処理部4と洗浄パラメータシーケンス自動設定部5と備え、異物情報により洗浄シーケンス及び洗浄パラメータの最適化を自動的に行なう機能を有する。

Claim (excerpt)：

マスクの洗浄において、洗浄前のマスク異物付着状態を解析し、マスクの洗浄シーケンスおよび洗浄パタメータの最適化を行う機能を有するマスク洗浄機。

IPC (3)：

G03F 1/08 ,  B08B 3/02 ,  H01L 21/304 341

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭59-195645
  
• 特開平2-135486
  
• 特開平3-168185