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J-GLOBAL ID：200903082407925515
LSIレイアウトパタンデ-タリサイズ方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
田中 正治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993131440
Publication number (International publication number)：1994318643
Application date： May. 07, 1993
Publication date： Nov. 15, 1994
Summary：
【要約】【目的】 LSIレイアウトパタンデ-タのリサイズ処理を、大きな作業領域と多くの時間とを必要とすることなしに行えるようにする。【構成】 リサイズ処理を行うにつき、パタンの輪郭を形成する辺数に変化を伴う場合と、変化を伴わない場合とで、互に異なる態様のリサイズ処理を行う。
Claim (excerpt)：
LSIレイアウトパタンデ-タのリサイズ処理を行う方法において、所望リサイズ量の処理に際し、レイアウトパタンの輪郭を形成する辺数に変化を伴う場合と、変化を伴わない場合とを判断し、その後のリサイズ処理工程を分けることを特徴とするLSIレイアウトパタンデ-タリサイズ方法。
IPC (3)：
H01L 21/82
, G03F 1/08
, G06F 15/60 370
