環境制御装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：前田弘 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993210395
Publication number (International publication number)：1994177225
Application date： Aug. 25, 1993
Publication date： Jun. 24, 1994
Summary：

【要約】【目的】チャンバー内の空気を清浄化するためチャンバー内にクリーンな空気を供給する清浄空気供給装置を必要としないと共に、チャンバー内で発生する微細な不純物も除去することができるようにする。【構成】半導体基板Cを収納した基板収納ボックス16は運搬用密閉容器18に収納された状態でチャンバー10の搬入口12に載置されている。チャンバー10の底壁10bから第1の気体循環用ファン26によって吸引された気体は、第1の気体循環用ダクト24の内部を流通し第1の高性能フィルター28によってクリーンにされた後、水平方向の層流としてチャンバー10内に供給される。図示はしていないが、気体循環用ファン及び高性能フィルターを有する第2の気体循環用ダクトからはクリーンな気体が垂直方向の層流としてチャンバー10内に供給される。

Claim (excerpt)：

製造時にクリーンな環境を必要とする板状のデバイスを製造するデバイス製造装置に設置される環境制御装置であって、気密性を有するチャンバーと、該チャンバーに設けられ、デバイスを第1の姿勢で該チャンバー内に搬入するための搬入口と、上記チャンバーに設けられ、デバイスを上記第1の姿勢と異なる第2の姿勢で該チャンバーから上記デバイス製造装置に搬出するための搬出口と、上記搬入口から搬入されたデバイスをその姿勢を上記第1の姿勢から上記第2の姿勢に変えて上記搬出口に移送する移送手段と、上記チャンバーの外部に設けられ、上記チャンバー内の気体を循環させる循環用ファンと循環する気体をクリーンにする高性能フィルターとを有し、クリーンな気体を上記第1の姿勢のデバイスの主面に対して平行な層流として上記チャンバー内に供給する第1の気体循環手段と、上記チャンバーの外部に設けられ、上記チャンバー内の気体を循環させる循環用ファンと循環する気体をクリーンにする高性能フィルターとを有し、クリーンな気体を上記第2の姿勢のデバイスの主面に対して平行な層流として上記チャンバー内に供給する第2の気体循環手段とを備えていることを特徴とする環境制御装置。

IPC (3)：

H01L 21/68 , F24F 7/06 , H01L 21/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (16)

特開平2-069955
特開平4-171716
特開昭63-140523

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