Pat

J-GLOBAL ID：200903082437427439

シリコンウェハーの洗浄方法

Inventor： 高島 正之 ,  讃良 憲一
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994112980
Publication number (International publication number)：1995321080
Application date： May. 26, 1994
Publication date： Dec. 08, 1995
Summary：

【要約】【目的】シリコンウエハーを硫酸または塩酸を含む洗浄液で洗浄した後でも、金属の付着が抑制された高清浄度のシリコンウエハーを得ることができる洗浄方法を提供すること。【構成】シリコンウェハーを硫酸または塩酸を含む洗浄液、たとえば硫酸と過酸化水素水の混合液(SPM)または塩酸と過酸化水素水と超純水からなる混合液(HPM)で洗浄した後、フッ酸と硝酸を含む水溶液で処理する。

Claim (excerpt)：

シリコンウェハーを硫酸または塩酸を含む洗浄液で洗浄した後に、フッ酸と硝酸を含む水溶液で処理することを特徴とするシリコンウェハーの洗浄方法。