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J-GLOBAL ID：200903082439828430

スチリル基を置換基として含むラダー型シルセスキオキサン化合物およびその製造方法

Inventor： 岡田 賢治 ,  津村 学 ,  岩原 孝尚
Applicant, Patent owner： 鐘淵化学工業株式会社
Agent (1)： 安富 康男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000276085
Publication number (International publication number)：2002088157
Application date： Sep. 12, 2000
Publication date： Mar. 27, 2002
Summary：

【要約】【課題】 本発明は、力学特性向上に有用な新規なケイ素化合物である、スチリル基を置換基として含むシルセスキオキサン化合物、及び、その製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 組成式がRSiO1.5(Rは、複数の1価の有機基を表し、そのうちの1種類がスチリル基を表す)で示されるシルセスキオキサン化合物。CH2=CH-C6H4-SiX3(Xは、同一又は異なって、加水分解性基を表す)と、R′SiX′3(R′は、スチリル基以外の1価の有機基を表す。X′は、同一又は異なって、加水分解性基を表す)とを共加水分解する、スチリル基を置換基として含むシルセスキオキサン化合物の製造方法。

Claim (excerpt)：

組成式がRSiO1.5(式中、Rは、複数の1価の有機基を表し、そのうちの1種類がスチリル基を表す。)で示されることを特徴とするシルセスキオキサン化合物。

IPC (2)：

C08G 77/20 ,  C08G 77/06

FI (2)：

C08G 77/20 ,  C08G 77/06

F-Term (8)：

4J035BA12 ,  4J035CA13N ,  4J035CA131 ,  4J035LB01 ,  4J035LB02 ,  4J035LB03 ,  4J035LB17 ,  4J035LB20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 有機官能基含有オルガノポリシロキサンの製造方法及び前記製造方法から得られるオルガノポリシロキサン
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-272000   Applicant：信越化学工業株式会社
• 特開平4-161435
  
• 反応性ポリメチルシルセスキオキサン
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-217740   Applicant：昭和電工株式会社
• シリコーン樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-146180   Applicant：東芝シリコーン株式会社
• 特開昭56-151731