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J-GLOBAL ID:200903082446608926

半導体基板保管箱、半導体基板の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 荒船 良男 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001244178
Publication number (International publication number):2003060021
Application date: Aug. 10, 2001
Publication date: Feb. 28, 2003
Summary:
【要約】【課題】シリコン単結晶ウェーハを収納・保管する際にシミが付着することを防止できる半導体保管箱と、シミ付着を防止できる半導体基板の製造方法を提供する。【解決手段】箱体と、蓋体と、箱体と蓋体との間に介装されて両者間を密封するガスケットと、を備える半導体基板保管箱において、ガスケットをポリエステル系エラストマー材質で構成する。気相エピタキシャル成長前においてウェーハを保管する際には、前記半導体基板保管箱に収納する。
Claim (excerpt):
箱体と、蓋体と、箱体と蓋体との間に介装されて両者間を密封するガスケットと、を備える半導体基板保管箱において、前記ガスケットは、主にポリエステル系エラストマーにより構成されることを特徴とする半導体基板保管箱。
IPC (3):
H01L 21/68 ,  B65D 53/02 ,  B65D 85/86
FI (3):
H01L 21/68 T ,  B65D 53/02 ,  B65D 85/38 R
F-Term (31):
3E084AA05 ,  3E084AB10 ,  3E084BA03 ,  3E084CA03 ,  3E084DA03 ,  3E084DB14 ,  3E084FA09 ,  3E084FD02 ,  3E084GA08 ,  3E084GA10 ,  3E084GB13 ,  3E084GB21 ,  3E084HA03 ,  3E084HB08 ,  3E084HC03 ,  3E084HD03 ,  3E096AA06 ,  3E096BA16 ,  3E096BB04 ,  3E096CA02 ,  3E096CB03 ,  3E096DA25 ,  3E096DC02 ,  3E096EA02 ,  3E096FA03 ,  3E096FA22 ,  3E096GA13 ,  5F031CA02 ,  5F031EA01 ,  5F031EA14 ,  5F031PA26
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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