Pat
J-GLOBAL ID:200903082446608926
半導体基板保管箱、半導体基板の製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
荒船 良男 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001244178
Publication number (International publication number):2003060021
Application date: Aug. 10, 2001
Publication date: Feb. 28, 2003
Summary:
【要約】【課題】シリコン単結晶ウェーハを収納・保管する際にシミが付着することを防止できる半導体保管箱と、シミ付着を防止できる半導体基板の製造方法を提供する。【解決手段】箱体と、蓋体と、箱体と蓋体との間に介装されて両者間を密封するガスケットと、を備える半導体基板保管箱において、ガスケットをポリエステル系エラストマー材質で構成する。気相エピタキシャル成長前においてウェーハを保管する際には、前記半導体基板保管箱に収納する。
Claim (excerpt):
箱体と、蓋体と、箱体と蓋体との間に介装されて両者間を密封するガスケットと、を備える半導体基板保管箱において、前記ガスケットは、主にポリエステル系エラストマーにより構成されることを特徴とする半導体基板保管箱。
IPC (3):
H01L 21/68
, B65D 53/02
, B65D 85/86
FI (3):
H01L 21/68 T
, B65D 53/02
, B65D 85/38 R
F-Term (31):
3E084AA05
, 3E084AB10
, 3E084BA03
, 3E084CA03
, 3E084DA03
, 3E084DB14
, 3E084FA09
, 3E084FD02
, 3E084GA08
, 3E084GA10
, 3E084GB13
, 3E084GB21
, 3E084HA03
, 3E084HB08
, 3E084HC03
, 3E084HD03
, 3E096AA06
, 3E096BA16
, 3E096BB04
, 3E096CA02
, 3E096CB03
, 3E096DA25
, 3E096DC02
, 3E096EA02
, 3E096FA03
, 3E096FA22
, 3E096GA13
, 5F031CA02
, 5F031EA01
, 5F031EA14
, 5F031PA26
Patent cited by the Patent: