DDR型ゼオライト膜の製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：渡邉一平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002219135
Publication number (International publication number)：2003159518
Application date： Jul. 29, 2002
Publication date： Jun. 03, 2003
Summary：

【要約】【課題】工業的なガス分離プロセス等にも好適に採用され得る膜厚を有するDDR型ゼオライト膜を簡便に、かつ、短期間で製造する方法を提供する。【解決手段】 1-アダマンタンアミンとシリカとの含有割合(1-アダマンタンアミン/SiO2)がモル比率で0.03〜0.4、水とシリカとの含有割合(水/SiO2)がモル比率で20〜500、更にエチレンジアミンと1-アダマンタンアミンとの含有割合(エチレンジアミン/1-アダマンタンアミン)がモル比率で5〜32である原料溶液と、種結晶となるDDR型ゼオライト粉末とを用いて、水熱合成することによりDDR型ゼオライト膜を形成する。

Claim (excerpt)：

1-アダマンタンアミンとシリカとの含有割合(1-アダマンタンアミン/SiO2)がモル比率で0.03〜0.4、水と前記シリカとの含有割合(水/SiO2)がモル比率で20〜500、更にエチレンジアミンと前記1-アダマンタンアミンとの含有割合(エチレンジアミン/1-アダマンタンアミン)がモル比率で5〜32である原料溶液と、種結晶となるDDR型ゼオライト粉末とを用いて、水熱合成することによりDDR型ゼオライト膜を形成することを特徴とするDDR型ゼオライト膜の製造方法。

IPC (5)：

B01D 71/02 500 , B01D 69/04 , B01D 69/06 , B01D 69/12 , C01B 37/02

FI (5)：

B01D 71/02 500 , B01D 69/04 , B01D 69/06 , B01D 69/12 , C01B 37/02

F-Term (39)：

4D006GA25 , 4D006GA41 , 4D006HA26 , 4D006HA41 , 4D006MA02 , 4D006MA03 , 4D006MA04 , 4D006MA06 , 4D006MA09 , 4D006MA31 , 4D006MB04 , 4D006MC03 , 4D006MC03X , 4D006MC04 , 4D006NA46 , 4D006NA51 , 4D006PA01 , 4D006PB18 , 4D006PB64 , 4D006PB68 , 4D006PC69 , 4G073BB07 , 4G073BB08 , 4G073BB12 , 4G073BB14 , 4G073BB43 , 4G073BB45 , 4G073BD06 , 4G073BD18 , 4G073CZ54 , 4G073FB11 , 4G073FB30 , 4G073FC12 , 4G073FC25 , 4G073FC30 , 4G073GA03 , 4G073GA19 , 4G073GB02 , 4G073UB40

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

小細孔多孔体を含む自動車排ガス浄化用の吸着材及び吸着体、これを用いた排ガス浄化システム及び排ガス浄化方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-256625 Applicant：日本碍子株式会社
特開昭63-040718
有機テンプレート及びアミンを用いたゼオライトの製造
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平8-528363 Applicant：シェブロンユー.エス.エー.インコーポレイテッド

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

Separation of Permanent Gases on the All-Silica 8-Ring Clathrasil DD3R

Return to Previous Page