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J-GLOBAL ID：200903082458502422

DDR型ゼオライト膜の製造方法

Inventor：
中山 邦雄

About 中山 邦雄

, 
吉田 学

About 吉田 学

, 
富田 俊弘

About 富田 俊弘


Applicant, Patent owner：
日本碍子株式会社

About 日本碍子株式会社


Agent (1)： 渡邉 一平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002219135
Publication number (International publication number)：2003159518
Application date： Jul. 29, 2002
Publication date： Jun. 03, 2003
Summary：
【要約】【課題】 工業的なガス分離プロセス等にも好適に採用され得る膜厚を有するDDR型ゼオライト膜を簡便に、かつ、短期間で製造する方法を提供する。【解決手段】 1-アダマンタンアミンとシリカとの含有割合(1-アダマンタンアミン/SiO2)がモル比率で0.03〜0.4、水とシリカとの含有割合(水/SiO2)がモル比率で20〜500、更にエチレンジアミンと1-アダマンタンアミンとの含有割合(エチレンジアミン/1-アダマンタンアミン)がモル比率で5〜32である原料溶液と、種結晶となるDDR型ゼオライト粉末とを用いて、水熱合成することによりDDR型ゼオライト膜を形成する。
Claim (excerpt)：
1-アダマンタンアミンとシリカとの含有割合(1-アダマンタンアミン/SiO2)がモル比率で0.03〜0.4、水と前記シリカとの含有割合(水/SiO2)がモル比率で20〜500、更にエチレンジアミンと前記1-アダマンタンアミンとの含有割合(エチレンジアミン/1-アダマンタンアミン)がモル比率で5〜32である原料溶液と、種結晶となるDDR型ゼオライト粉末とを用いて、水熱合成することによりDDR型ゼオライト膜を形成することを特徴とするDDR型ゼオライト膜の製造方法。
IPC (5)：
B01D 71/02 500 ,  B01D 69/04 ,  B01D 69/06 ,  B01D 69/12 ,  C01B 37/02
FI (5)：
B01D 71/02 500 ,  B01D 69/04 ,  B01D 69/06 ,  B01D 69/12 ,  C01B 37/02
F-Term (39)：
4D006GA25 ,  4D006GA41 ,  4D006HA26 ,  4D006HA41 ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MA04 ,  4D006MA06 ,  4D006MA09 ,  4D006MA31 ,  4D006MB04 ,  4D006MC03 ,  4D006MC03X ,  4D006MC04 ,  4D006NA46 ,  4D006NA51 ,  4D006PA01 ,  4D006PB18 ,  4D006PB64 ,  4D006PB68 ,  4D006PC69 ,  4G073BB07 ,  4G073BB08 ,  4G073BB12 ,  4G073BB14 ,  4G073BB43 ,  4G073BB45 ,  4G073BD06 ,  4G073BD18 ,  4G073CZ54 ,  4G073FB11 ,  4G073FB30 ,  4G073FC12 ,  4G073FC25 ,  4G073FC30 ,  4G073GA03 ,  4G073GA19 ,  4G073GB02 ,  4G073UB40
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)
Article cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (1)

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