Pat

J-GLOBAL ID：200903082459509749

枚葉式真空処理装置

Inventor： 小川 芳文 ,  中田 健二 ,  七田 弘之 ,  牧野 昭孝 ,  田村 直行
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 高田 幸彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992247633
Publication number (International publication number)：1994097260
Application date： Sep. 17, 1992
Publication date： Apr. 08, 1994
Summary：

【要約】【目的】枚葉式真空処理装置のロ-ドロック機構において、被搬送物である基板を収納し大気圧と真空間を繰り返す小部屋内の塵埃低減とロ-ドロック動作の高速化を目的とする。【構成】真空中で上下方向に2段階に駆動できるステ-ジ2を動作させ、中間位置でア-ム5から基板10を受取り、ステ-ジ2を最上段まで上昇させて大気圧と真空との状態を繰り返す小部屋8を形成する。この小部屋8の内部にシ-ル機構が存在しないため摺動による塵埃の発生がない。また従来の基板の直下にプシャを設けて基板を持ち上げて搬送する場合に比べて基板直下の気体の流れがスム-になり,より短時間内にリ-クや排気ができる。

Claim (excerpt)：

ステ-ジが上昇して封止することにより大気と連通させる小部屋を形成するロ-ドロック機構を用い、基板を一枚ずつ搬入して減圧下で処理する枚葉式真空処理装置において、前記ステ-ジを上下方向に2段階駆動するように設け、大気中のロ-ダが上下方向に2段階駆動するように設けたことを特徴とする枚葉式真空処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/205

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開平4-091885
  
• 特開平2-196441
  
• 特開平4-069917
  
• 特開平4-157751
  
• 特開平4-091885