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J-GLOBAL ID：200903082515981880

耐高熱性ポジ型レジスト及び耐高熱性レリーフ構造物の製法

Inventor： アルベルト ハンマーシユミツト ,  ジークフリート ビルクレ ,  ヘルムート アーネ
Applicant, Patent owner： シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト
Agent (1)： 富村 潔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992139694
Publication number (International publication number)：1993197153
Application date： May. 01, 1992
Publication date： Aug. 06, 1993
Summary：

【要約】【目的】 貯蔵安定性に関する難点を生じない価格的に有利な耐高熱性ポジ型レジストを提供する。【構成】 ポリベンズオキサゾール前駆体が以下の構造式:【化1】[式中R、R′、R1 、R1 ′及びR2 は芳香族基であり、R3 はアルケニル基又はアルキニル基を少なくとも1個有する脂肪族、脂環式又は芳香族基であり、n1 、n2 及びn3 に関しては以下の通りである。n1 =1〜100、n2 及びn3 =0又はn1 及びn2 =1〜100、n3 =0又はn2 =1〜100、n1 及びn3 =0又はn1 、n2 及びn3 =1〜100(但しR≠R′及び/又はR1 ≠R1 ′)又はn1 及びn3 =1〜100、n2 =0(但しR≠R′及び/又はR1 ≠R1 ′)(但しn1 +n2 +n3 ≧3)]のヒドロキシポリアミドである。

Claim (excerpt)：

オリゴマー及び/又はポリマーのポリベンズオキサゾール前駆体及びジアゾキノンをベースとする耐高熱性ポジ型レジストにおいて、ポリベンズオキサゾール前駆体が以下の構造式:【化1】[式中R、R′、R1 、R1 ′及びR2 は芳香族基であり、R3 はアルケニル基又はアルキニル基を少なくとも1個有する脂肪族、脂環式又は芳香族基であり、n1 、n2 及びn3 に関しては以下の通りである。n1 =1〜100、n2 及びn3 =0又はn1 及びn2 =1〜100、n3 =0又はn2 =1〜100、n1 及びn3 =0又はn1 、n2 及びn3 =1〜100(但しR≠R′及び/又はR1 ≠R1 ′)又はn1 及びn3 =1〜100、n2 =0(但しR≠R′及び/又はR1 ≠R1 ′)(但しn1 +n2 +n3 ≧3)]のヒドロキシポリアミドであることを特徴とする耐高熱性ポジ型レジスト。

IPC (6)：

G03F 7/039 501 ,  C08L 77/10 LQX ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/312

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭64-006947
  
• 特開昭56-027140