Pat
J-GLOBAL ID:200903082520247019
一酸化炭素および水素を得る方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
川原田 一穂
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997180288
Publication number (International publication number):1999043306
Application date: Jun. 23, 1997
Publication date: Feb. 16, 1999
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 純粋な一酸化炭素と水素とを同時的かつ分離して得る為の低資本及び低運転費を有する方法を開発する。【解決手段】 2〜20モル%のCOを含み第2リフォーマー3から放出されて200〜500°Cの温度および15〜50バールの圧力にある合成ガス流の部分ガス流を、第2リフォーマー3とCO変換段階との間で除去する。次いで部分ガス流を100°C未満の温度まで冷却して、ガス流中の水蒸気の大部分を凝縮させる。残留する原料合成ガス流を多段階ガス分離プラントに導き、H2 と水蒸気とCH4 とCO2 とN2 とを個別又は一緒にCOから分離する。次いで、分離されたガス成分をCO変換段階の圧力を越えて圧縮し、再合混合ガス流を形成する。混合ガス流を、200〜500°Cの温度まで加熱後に水蒸気リフォーマーのCO変換段階に導く。残留する純COフラクションは別途に除去し、必要ならさらに処理し供給する。
Claim (excerpt):
ガス成分H2 とH2 O蒸気とCH4 とCO2 とCOと必要に応じN2 とからなる合成ガス流をさらに処理することにより純粋な一酸化炭素と純粋な水素とを同時に得るに際し:(a) 第2リフォーマーとCO変換段階との間で、第2リフォーマーから放出された2〜20モル%、好ましくは5〜10モル%のCO含有量を有すると共に200〜500°Cの温度および15〜50バールの範囲の圧力にある前記合成ガス流の部分ガス流を、水素もしくはアンモニア発生のための第1リフォーマーと第2リフォーマーとその下流のCO変換段階とを有する水蒸気リフォーマープラントにて除去し;(b) 前記部分ガス流を100°C未満の温度に冷却することにより、前記部分ガス流に含有された水蒸気の大部分を凝縮させて原料合成ガス流を生成させ;(c) 前記残留する原料合成ガスを多段階ガス分離プラントに案内して、ここで前記ガス成分H2 、残留H2 O、CH4 、CO2 および必要に応じN2 をCOから個別的にまたは一緒に分離し;(d) COからのガス成分H2 、CH4 および必要に応じN2 を圧縮し、これらガス成分を前記CO変換段階における圧力を越える圧力まで圧縮することによりCOから分離すると共に再合体させて混合ガス流を生成させ;(e) 前記混合ガス流を200〜500°Cの温度まで加熱すると共に、前記混合ガス流を前記水蒸気リフォーマープラントの前記CO変換段階に供給し;(f) 残留する純粋COフラクションを別途に除去し、必要に応じ前記残留する純粋COフラクションをさらに処理すべく供給することを特徴とする純粋二酸化炭素と純粋水素とを同時に得る方法。
Return to Previous Page