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J-GLOBAL ID：200903082526730889

磁気ディスク装置用保護膜及びその製造方法

Inventor： 菊池 暁 ,  北本 善透 ,  渡辺 真 ,  朝倉 紀之
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 石田 敬 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994187231
Publication number (International publication number)：1996055333
Application date： Aug. 09, 1994
Publication date： Feb. 27, 1996
Summary：

【要約】【目的】 磁気ディスク媒体及び磁気ヘッドの保護層として、耐磨耗性、絶縁性に優れ、製造安定性のあるものを提供する。【構成】 保護膜をスパッタリング法又はCVDで形成して炭素及びケイ素より構成し、かつ水素含有ガス(CH4 ,C2 H2 ,H2 など)雰囲気中でスパッタリング又はCVDを行なう。Si量は3〜30at%,H/C比は0.5以下がよい。

Claim (excerpt)：

磁気ディスク装置におけるディスク媒体又は磁気ヘッドの摺動部に用いられる保護膜であって、該摺動部の基体上に炭素及び珪素を主成分として構成され、珪素含有量が3〜30at%の範囲で形成されてなることを特徴とする磁気ディスク装置用の保護膜。

IPC (4)：

G11B 5/72 ,  G11B 5/255 ,  G11B 5/60 ,  G11B 5/84