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J-GLOBAL ID：200903082544134371

ポリッシュ盤における研磨液の除去方法

Inventor： 波田野 光一
Applicant, Patent owner： ラップマスターエスエフティ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996117153
Publication number (International publication number)：1997277172
Application date： Apr. 16, 1996
Publication date： Oct. 28, 1997
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】最終研磨加工後のワークの研磨液を洗浄するための洗浄液へ除去液として0.01パーセント乃至10パーセントのアルコールを混入させて、能率良く完全に研磨液を除去する。【解決手段】ワークWを保持し且つ一方の回転軸1aに固着されたベースプレート1と、ポリシングクロスを張着させ且つ他方の回転軸に固着されたポリシングプレート2と、ポリシングプレートへ貫設した洗浄液4aの噴出孔3と、噴出孔と連繋させた洗浄液を供給する洗浄液給液系4と、洗浄液給液系と接続させた除去液5aを供給する除去液給液系5とを備え、ポリシングプレート2とベースプレート1との間にワークを挟着させて回転軸を回転させ、噴出孔から噴出させる洗浄液4aへ除去液5aとして0.01パーセント乃至10パーセントのアルコールを除去液給液系から洗浄液給液系へ供給させる。

Claim (excerpt)：

ワークを保持し且つ一方の回転軸に固着されたベースプレートと、ポリシングクロスを張着させ且つ他方の回転軸に固着されたポリシングプレートと、該ポリシングプレートへ貫設した洗浄液の噴出孔と、該噴出孔と連繋させた洗浄液を供給する洗浄液給液系と、該洗浄液給液系と接続させた除去液を供給する除去液給液系とを備えたポリッシュ盤を用いて、前記ポリシングプレートと前記ベースプレートとの間にワークを挟着させて夫々の回転軸を回転させると共に、前記噴出孔から噴出させる洗浄液へ除去液として0.01パーセント乃至10パーセントのアルコールを除去液給液系から洗浄液給液系へ供給させることを特徴とするポリッシュ盤における研磨液の除去方法。

IPC (4)：

B24B 57/02 ,  B23Q 11/00 ,  H01L 21/304 321 ,  H01L 21/304 341

FI (4)：

B24B 57/02 ,  B23Q 11/00 Z ,  H01L 21/304 321 A ,  H01L 21/304 341 M