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J-GLOBAL ID：200903082577229297

磁気分離装置

Inventor： 磯上 尚志 ,  佐保 典英 ,  森田 穣
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 高崎 芳紘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998035872
Publication number (International publication number)：1999226321
Application date： Feb. 18, 1998
Publication date： Aug. 24, 1999
Summary：

【要約】【課題】 本発明の目的は、連続的な処理が可能な高勾配磁気分離装置を提供することを課題とする。【解決手段】 超伝導磁石1と磁性構造体5とで磁性回路を構成し、その一部に連続した構造を有する吸着マトリックス6を配置し、この吸着マトリックス6を連続的あるいは断続的に移動させることによって、被処理水を停止することなく吸着、逆洗の連続運転を可能にする。【効果】 本発明によれば、連続的に高勾配磁気分離装置を運転することができるため、逆洗時における処理の停止が必要無く、消費電力を少なくし、かつトータルの処理速度を向上することができる。

Claim (excerpt)：

電磁石が発生する磁場空間内に設けられ内部に強磁性フィルタ素材を充填した磁性マトリックスと、この磁性マトリックス内に磁性を有する被除去物を含んだ被処理流体を循環させる流体循流系を有し、この被処理流体から前記磁性を有する被除去物を除去する磁気分離装置において、前記電磁石とともに磁気回路を構成する磁性構造体を具備し、前記電磁石を超伝導磁石で構成し、前記磁性マトリックスを運用時には前記磁気回路の一部の磁場空間内に配置するとともに、運用時以外には磁場空間外に移動可能に構成することを特徴とする磁気分離装置。

IPC (2)：

B01D 35/06 ZAA ,  B01D 35/06

FI (2)：

B01D 35/06 ZAA K ,  B01D 35/06 L