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J-GLOBAL ID：200903082649702251
回転電極を用いた高速成膜方法及びその装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
目次 誠 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996201722
Publication number (International publication number)：1997104985
Application date： Jul. 31, 1996
Publication date： Apr. 22, 1997
Summary：
【要約】【課題】 均質な薄膜を、高速でかつ大きな面積で形成することができる高速成膜方法及び高速成膜装置を得る。【解決手段】 回転することにより基板4の表面の近傍を移動しながら通過する電極表面を有する回転電極1を設け、この回転電極1を回転させ基板4の表面の近傍を電極表面が移動しながら通過することにより反応ガスを基板4の表面と回転電極1の間に供給し、回転電極1に高周波電力3を印加することにより、基板4の表面と回転電極1の間にプラズマを発生させ、プラズマ中に供給された反応ガスの化学反応により基板4上に薄膜を形成する方法及び装置。
Claim (excerpt)：
電極に高周波電力または直流電力を印加することによりプラズマを発生させ、該プラズマ中に反応ガスを供給して化学反応により基板上に薄膜を形成する方法において、前記電極として、回転電極を用いることを特徴とする高速成膜方法。
IPC (4)：
C23C 16/50
, H01L 21/205
, H05H 1/46
, H01L 31/04
C23C 16/50
, H01L 21/205
, H05H 1/46 A
, H01L 31/04 V
