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J-GLOBAL ID：200903082668828355
セラミックリブ及びこれを有するFPD
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
須田 正義
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001356790
Publication number (International publication number)：2002197980
Application date： Nov. 06, 1998
Publication date： Jul. 12, 2002
Summary：
【要約】【課題】 少ない工程で材料の無駄なく、簡便にかつ精度良くセラミックキャピラリリブを形成する。【解決手段】 ペーストを基板10表面に塗布してペースト膜11を形成し、ブレード12周辺の少なくとも一部に形成されたくし歯12bをペースト膜11につき刺した状態でブレード12又は基板10を一定方向に移動させ、基板表面にセラミックキャピラリリブ13を形成する。ペーストがガラス粉末又はガラス・セラミック混合粉末30〜95重量%と有機バインダ0.3〜15重量%と、溶剤と可塑剤と分散剤3〜70重量%を含み、基板上のセラミックリブは、アスペクト比が2〜10であることが好ましい。ブレードのピッチP隙間w深さh野関係は0.03mm≦h≦1.0mmでありw/P≦0.9が良く、基板表面から浮上させれば絶縁層上にリブを形成できる。
Claim (excerpt)：
ペーストを基板(10)表面に塗布することにより形成されたペースト膜(11)にブレード(12)のくし歯(12b)をつき刺して前記くし歯(12b)の先端エッジ(12a)を前記基板(10)表面に接触させた状態で前記ブレード(12)又は前記基板(10)を一定方向に移動することにより前記ペースト膜(11)の一部を掃き取って形成されたセラミックキャピラリリブ(13)を焼成して前記基板(10)表面に直接形成されたセラミックリブ(14)であって、前記リブ(14)の高さをHとし、高さ(1/2)Hのところのリブの幅をWC、高さ(3/4)Hのところのリブの幅をWM及び高さ(9/10)Hのところのリブの幅をWTとするとき、前記H、WC、WM及びWTのそれぞれの(最大値又は最小値-平均値)/平均値で表されるばらつきが5%以下であって、H/WCで表されるアスペクト比が2〜10であることを特徴とするセラミックリブ。
IPC (2)：
FI (2)：
H01J 11/02 B
, H01J 9/02 F
5C027AA09
, 5C040GF02
, 5C040GF12
, 5C040GF18
, 5C040GF19
, 5C040JA20
, 5C040KA07
, 5C040KB03
, 5C040KB19
, 5C040KB28
, 5C040LA17
, 5C040MA24
, 5C040MA26
