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J-GLOBAL ID:200903082672906859

流動層炉

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 角田 嘉宏 (外5名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998015685
Publication number (International publication number):1999209811
Application date: Jan. 28, 1998
Publication date: Aug. 03, 1999
Summary:
【要約】【課題】 反応活性が低く、輸送、貯蔵中に再酸化する可能性が極めて低い鉄カーバイド製品を安定して製造することができる流動層炉を提供すること。【解決手段】 流動層炉内を仕切板5によって多室に分割し、多室に分割した分割室の中の出口側分割室の流動層内または出口側分割室の流動層の下方に、散水設備または低温反応ガス導入設備を有している。
Claim (excerpt):
炉内に投入された含鉄粉粒体原料を炉内下部に導入した反応ガスにより流動させつつ反応を行って鉄カーバイド製品を排出する流動層炉であって、流動層を仕切板によって多室に分割し、多室に分割した分割室の中の出口側分割室の流動層内または出口側分割室の流動層の下方に、散水するかまたは低温反応ガスを導入することを特徴とする流動層炉。
IPC (2):
C21B 13/00 101 ,  C21B 15/00
FI (2):
C21B 13/00 101 ,  C21B 15/00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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