Pat
J-GLOBAL ID:200903082674382628
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
若林 邦彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000071064
Publication number (International publication number):2001255650
Application date: Mar. 09, 2000
Publication date: Sep. 21, 2001
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 感度、解像性、密着性、現像性及びめっき浴汚染性が優れる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法並びにプリント配線板の製造法。【解決手段】 (A)バインダーポリマー、(B)分子内に少なくとも1つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物及び(C1)下記一般式(I)で表されるビススルホニウムボレート化合物を含有してなる感光性樹脂組成物、この感光性樹脂組成物を支持体上に塗布、乾燥してなる感光性エレメント、この感光性エレメントを、回路形成用基板上に感光性樹脂組成物層が密着するようにして積層し、活性光線を画像状に照射し、露光部を光硬化させ、未露光部を現像により除去することを特徴とするレジストパターンの製造法並びにこのレジストパターンの製造法により、レジストパターンの製造された回路形成用基板をエッチング又はめっきすることを特徴とするプリント配線板の製造法。
Claim (excerpt):
(A)バインダーポリマー、(B)分子内に少なくとも1つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物及び(C1)一般式(I)【化1】(一般式(I)中、R1、R2、R3及びR4は、各々独立に、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシル基又は炭素数6〜14のアリール基を示し、R5及びR6は、各々独立に、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数1〜12のアルコキシル基を示し、R7、R8、R9及びR10は、各々独立に、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数6〜14のアリール基又は炭素数7〜11のアリールアルキル基を示し、nは、0〜5の整数であり、mは、0〜4の整数である)で表されるビススルホニウムボレート化合物を含有してなる感光性樹脂組成物。
IPC (13):
G03F 7/029
, C08F 2/44
, C08F 2/50
, C08F 20/10
, C08F291/00
, C08F299/02
, G03F 7/004 512
, G03F 7/027 502
, G03F 7/031
, G03F 7/032
, G03F 7/40 521
, H05K 3/06
, H05K 3/18
FI (13):
G03F 7/029
, C08F 2/44 C
, C08F 2/50
, C08F 20/10
, C08F291/00
, C08F299/02
, G03F 7/004 512
, G03F 7/027 502
, G03F 7/031
, G03F 7/032
, G03F 7/40 521
, H05K 3/06 J
, H05K 3/18 D
F-Term (163):
2H025AA00
, 2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA04
, 2H025AA14
, 2H025AB11
, 2H025AB15
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BC14
, 2H025BC42
, 2H025BC43
, 2H025BC45
, 2H025CA01
, 2H025CA20
, 2H025CA28
, 2H025CA50
, 2H025CB14
, 2H025CB16
, 2H025CB23
, 2H025CB28
, 2H025CB30
, 2H025CB52
, 2H025FA03
, 2H025FA17
, 2H025FA40
, 2H025FA43
, 2H096AA26
, 2H096BA05
, 2H096BA20
, 2H096EA02
, 2H096GA08
, 2H096HA17
, 2H096HA27
, 2H096JA04
, 4J011PA65
, 4J011PA67
, 4J011PA69
, 4J011PA70
, 4J011PA85
, 4J011PA86
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, 5E343GG08
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