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J-GLOBAL ID：200903082691301917

金属磁性薄膜及び金属磁性薄膜を用いた磁気ヘッド

Inventor： 的野 直人 ,  大山 達史 ,  安田 伊佐雄
Applicant, Patent owner： 三洋電機株式会社
Agent (1)： 西野 卓嗣
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992284397
Publication number (International publication number)：1994132126
Application date： Oct. 22, 1992
Publication date： May. 13, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 飽磁束密度が大きく、保磁力が小さく、且つ透磁率が高く、しかも熱膨張係数が基板材料に近似している金属磁性薄膜を形成し、この金属磁性薄膜を磁気コアに用いることにより高保磁力媒体に対して良好に記録、再生を行うことが出来、更に熱応力による金属磁性薄膜の剥離を抑えた磁気ヘッドを提供する。【構成】 Siを1〜3wt%含有するFe-Ni-Si系合金であって、Feの含有量が30〜60wt%であり、膜厚が3μm以上である金属磁性薄膜を形成し、該金属磁性薄膜により磁気コア、例えばMIG型磁気ヘッドにおける金属磁性薄膜、薄膜磁気ヘッドにおける下部磁性コア6、上部磁性コア9等を形成する。

Claim (excerpt)：

Siを1〜3wt%含有するFe-Ni-Si系合金よりなる金属磁性薄膜であって、Feの含有量が30〜60wt%であり、膜厚が3μm以上である金属磁性薄膜。

IPC (3)：

H01F 10/14 ,  G11B 5/31 ,  H01F 41/18