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J-GLOBAL ID：200903082695902834

微量反応装置

Inventor： 釜堀 政男
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994025070
Publication number (International publication number)：1995232056
Application date： Feb. 23, 1994
Publication date： Sep. 05, 1995
Summary：

【要約】【目的】 微量サンプルを希釈しないように微小領域で効率良く反応させる装置を提供すること。【構成】 同一平面上に配置された流路内に高電圧を印加する電源部1、2、電源部1、2の高電圧印加により電気浸透流が発生する流路7a-f、反応試薬槽3、廃液槽4、5、サンプル槽6、反応試薬とサンプルの導入を切り替える流路切り替え装置9、10、11、12、13、14、及び流路切り替え装置の働きを制御するコントローラ部20から構成されている。

Claim (excerpt)：

同一平面上に内径100μm以下の微細溝を有し、サンプルと反応試薬を反応させる装置において、送液手段として該微細溝の一部に電圧を印加することにより発生する電気浸透流を用いて、サンプルまたは反応試薬を送液することを特徴とする微量反応装置。