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J-GLOBAL ID：200903082751225956

化粧品基材

Inventor： 中島 徹 ,  渡辺 美広 ,  坂 直子
Applicant, Patent owner： 日澱化學株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993251205
Publication number (International publication number)：1995017825
Application date： Jun. 30, 1993
Publication date： Jan. 20, 1995
Summary：

【要約】【構成】 MS値0.1〜1.8、窒素含有率0.2〜3重量%、30%水溶液粘度が3〜500cpsである低粘度カチオン化ヒドロキシアルキルガラクトマンナンからなる化粧品基材。【効果】 本発明の低粘度カチオン化ヒドロキシアルキルガラクトマンナンを用いた化粧品は、良好な使用感、仕上り感を与える。

Claim (excerpt)：

MS値0.1〜1.8のガラクトマンナンのヒドロキシアルキルエーテルにおいて、その中のヒドロキシル基の一部が下記化1の一般式(I)で示される残基で置換された構造を有し、かつ窒素含有率が0.2〜3重量%で30%水溶液の30°C粘度が3〜500cpsである低粘度カチオン化ヒドロキシアルキルガラクトマンナンからなる化粧品基材。【化1】

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開平4-306245