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J-GLOBAL ID：200903082754800323

常圧CVD装置

Inventor： 原島 啓一
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 鈴木 章夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992161765
Publication number (International publication number)：1993331646
Application date： May. 29, 1992
Publication date： Dec. 14, 1993
Summary：

【要約】【目的】 常圧CVD法によりウェハに成膜する膜厚の均一化を図る。【構成】 ウェハの表面に原料ガスを供給してウェハ表面に成膜を行う常圧CVD装置において、ウェハ2を原料ガスの供給ヘッド1に設けたガス供給口7に対して自転させる機構(モータ6)と、直線運動をさせる機構9を備える。ウェハ2を自転及び直線運動させることで、ガス供給口7からウェハ2の表面に供給されるガスのばらつきを抑制し、均一な膜厚の成膜を可能とする。

Claim (excerpt)：

ウェハの表面に原料ガスを供給してウェハ表面に成膜を行う常圧CVD装置において、前記ウェハを原料ガスの供給ヘッドに対して自転させる機構と直線運動をさせる機構を備えることを特徴とする常圧CVD装置。

IPC (3)：

C23C 16/44 ,  C23C 16/54 ,  H01L 21/205