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J-GLOBAL ID：200903082756543298
薄膜磁気ヘッド用基板およびこれを用いた薄膜磁気ヘッド
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998143352
Publication number (International publication number)：1999339229
Application date： May. 25, 1998
Publication date： Dec. 10, 1999
Summary：
【要約】【課題】薄膜磁気ヘッド素子部の放熱性を上げるとともに、素子のメディア面への接触を防止し、さらに膜密着強度、電気的な耐圧、面品位に優れた薄膜磁気ヘッド用基板を提供する。【解決手段】基板6上に厚み0.7〜3.5μmのDLC膜7と、厚み1.3μm以下のアモルファスアルミナ膜8とを順次積層してなる薄膜磁気ヘッド用基板1。
Claim (excerpt)：
基板上に厚み0.7〜3.5μmのダイヤモンド・ライク・カーボン膜と厚み1.3μm以下のアモルファスアルミナ膜とを順次積層してなる薄膜磁気ヘッド用基板。
IPC (2)：
FI (2)：
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