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J-GLOBAL ID：200903082789893910

光造形装置

Inventor： 武久 究 ,  川久保 幸雄 ,  佐々木 弘治
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994058501
Publication number (International publication number)：1995266429
Application date： Mar. 29, 1994
Publication date： Oct. 17, 1995
Summary：

【要約】【構成】レーザ光1は凸レンズ3a、及び3bに入射し、液晶マスク4の全面に照射される。マーキングさせるパターン状の偏光方向を有するレーザ光は、偏光ビームスプリッタ5で反射して、結像レンズ6を通り、容器7中に満たされた紫外線硬化樹脂8に照射される。すなわち、結像レンズ6により、液晶マスク4でのパターンが紫外線硬化樹脂8の表面に転写され、パターン状に紫外光が照射された表面の薄い層が硬化し、この硬化層を上下方向に積み重ねていくことで立体モデルが形成される。【効果】消費電力を増大させずに、短時間で立体モデルを製作できる光造形装置を提供することができる。

Claim (excerpt)：

液晶マスクを用い、光源としてXeFエキシマレーザを用いたことを特徴とする光造形装置。

IPC (5)：

B29C 67/00 ,  B23K 26/00 ,  B29C 35/08 ,  G02F 1/13 505 ,  B29K105:24