Pat

J-GLOBAL ID：200903082821085626

研磨パッド及びその製造方法

Inventor： 東山 哲 ,  村本 禎 ,  斎藤 秀直 ,  富永 茂 ,  平良 哲二
Applicant, Patent owner： レンゴー株式会社 ,  株式会社ロキテクノ ,  株式会社エー・シー・イー
Agent (1)： 鎌田 文二 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000192497
Publication number (International publication number)：2002011652
Application date： Jun. 27, 2000
Publication date： Jan. 15, 2002
Summary：

【要約】【課題】 親水性及び耐久性を有し、パッド表面の研磨スラリーの保持性を改善したCMPにおいて用いられる研磨パッドを提供することを目的とする。【解決手段】 親水性繊維から構成されるシートに、親水性高分子を20〜90重量%担持させる。

Claim (excerpt)：

親水性繊維から構成されるシートに、親水性高分子を20〜90重量%担持させた研磨パッド。

IPC (2)：

B24B 37/00 ,  H01L 21/304 622

FI (2)：

B24B 37/00 C ,  H01L 21/304 622 F

F-Term (5)：

3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058CA01 ,  3C058CB01 ,  3C058DA12