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J-GLOBAL ID：200903082836982187

ダイヤモンド薄膜の化学機械研磨方法

Inventor： 高橋 裕
Applicant, Patent owner： 科学技術振興事業団
Agent (1)： 小倉 亘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001153758
Publication number (International publication number)：2002346915
Application date： May. 23, 2001
Publication date： Dec. 04, 2002
Summary：

【要約】【目的】 化学反応及び砥粒による機械的作用が複合された化学機械研磨によってダイヤモンド薄膜を研磨することにより、欠陥がなくナノメータオーダーで平滑な表面にダイヤモンド薄膜を改質する。【構成】 酸化触媒作用のある砥粒を分散させた酸化性研磨液にダイヤモンド薄膜を浸漬し、砥粒で薄膜表面を擦過しながらダイヤモンド薄膜を研磨する。砥粒としてはたとえば酸化触媒作用のある酸化クロム,酸化鉄等が使用され、過酸化水素水,硝酸塩水溶液,或いはそれらの混合液に砥粒を分散させた研磨液を調製することが好ましい。

Claim (excerpt)：

酸化触媒作用のある砥粒を分散させた酸化性研磨液にダイヤモンド薄膜を浸漬し、砥粒で薄膜表面を擦過しながらダイヤモンド薄膜を研磨することを特徴とするダイヤモンド薄膜の化学機械研磨方法。

F-Term (5)：

3C058AA07 ,  3C058CA01 ,  3C058CB01 ,  3C058DA02 ,  3C058DA12