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J-GLOBAL ID：200903082858974480

磁気記録媒体の製造装置

Inventor： 松山 秀昭 ,  西村 恵 ,  永山 利枝
Applicant, Patent owner： 富士電機株式会社
Agent (1)： 山口 巖 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000125601
Publication number (International publication number)：2001028120
Application date： Apr. 26, 2000
Publication date： Jan. 30, 2001
Summary：

【要約】【課題】 プラズマ中のイオンの加速方法を工夫し、絶縁性の基板に対しても硬質なカーボン(DLC)膜を形成可能とする。【解決手段】 プラズマCVD装置内のプラズマの発生領域であるプラズマ発生室(キャビティ)2に隣接する反応室1内に基板11を載置し、かつその近傍に格子状のグリッド電極12を配置してこれに負のバイアス電圧を与える電源13を接続することでイオンの加速を可能とし、硬いDLC膜を形成し得るようにする。

Claim (excerpt)：

炭化水素ガスを主原料とするプラズマCVDにより、基板に積層された磁気記録層上にカーボン系保護膜を形成する磁気記録媒体の製造装置において、プラズマCVD装置内のプラズマの発生領域であるプラズマ発生室に隣接する反応室内に基板を載置し、グリッド電極を配置してこれに負のバイアス電圧を与える電源を接続することを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。

IPC (3)：

G11B 5/84 ,  C23C 16/27 ,  C23C 16/511

FI (3)：

G11B 5/84 B ,  C23C 16/27 ,  C23C 16/511

F-Term (21)：

4K030AA09 ,  4K030BA27 ,  4K030CA05 ,  4K030CA06 ,  4K030CA07 ,  4K030CA12 ,  4K030FA02 ,  4K030GA01 ,  4K030JA03 ,  4K030JA17 ,  4K030JA18 ,  4K030KA15 ,  4K030KA20 ,  4K030LA20 ,  5D112AA02 ,  5D112AA07 ,  5D112BA02 ,  5D112BA03 ,  5D112BC05 ,  5D112FA10 ,  5D112FB26