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J-GLOBAL ID:200903082873106605

光ファイバ及びその加工方法、光ファイバプローブ及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小池 晃 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994055697
Publication number (International publication number):1995261039
Application date: Mar. 25, 1994
Publication date: Oct. 13, 1995
Summary:
【要約】【目的】光導波路との結合効率が高い光ファイバを提供する。突出部の先端に容易に平坦部を形成できる光ファイバの加工方法、光ファイバプローブの製造方法を提供する。クラッドの周端部が試料表面に衝突することがなく、検出効率が高く、製造が容易な光ファイバプローブを提供する。【構成】酸化ゲルマニウムGeO2 を添加した石英SiO2 からなるコア2の径がdc であり、石英SiO2 からなるクラッド3の径がd0 の光ファイバ1の一端にクラッド3を径小とした基端部4を有し、この基端部4の先端にコア2を先鋭化した突出部5を有し、この突出部5の先端に微小面積の平坦部6を有する。また、突出部5にクロムによる第1の被覆層と、金による第2の被覆層を設けると共に、突出部5の先端の平坦部6を開口部とする。
Claim (excerpt):
コアとクラッドからなる光ファイバの一端にコアを先鋭化した突出部を有し、該突出部の先端に平坦部を有してなることを特徴とする光ファイバ。
IPC (4):
G02B 6/10 ,  C03B 37/10 ,  G01B 11/30 102 ,  G02B 6/00 301
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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