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J-GLOBAL ID：200903082946784003

有害ガス除去装置

Inventor： 新貝 和照 ,  寺野 哲浩 ,  西方 聡 ,  宮本 昌広 ,  高橋 武男
Applicant, Patent owner： 富士電機株式会社
Agent (1)： 山口 巖
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994210315
Publication number (International publication number)：1996071370
Application date： Sep. 05, 1994
Publication date： Mar. 19, 1996
Summary：

【要約】【目的】太陽光の照射を受けて大気中からNOx などの有害ガス成分の除去,および発電が同時に行えるよう光触媒と太陽電池とを組合わせ、併せて太陽電池の発電を利用して日没後も継続して光触媒を活性機能させることができるようにした有害ガス除去装置を提供する。【構成】太陽電池3のガラス基板3aをベース板として、その表面に焼結処理により透明化した二酸化チタンの光触媒層4を被覆形成するとともに、光触媒層に向けて近紫外光を照射する補助ランプ5、太陽電池に接続した蓄電池6を備え、日中は太陽光の照射の下で有害ガスを除去しつつ、太陽電池の発電出力で蓄電池を充電し、日没後は蓄電池を電源として補助ランプの点灯により有害ガス成分の除去を継続して行う。

Claim (excerpt)：

大気中からNOx などの大気汚染物質を除去するための有害ガス除去装置であり、パネル状ベース板の表面に光触媒を被着し、これに近紫外光を照射して有害ガスを捕捉させるものにおいて、太陽電池の透明基板をベース板として、その表面に焼結処理により透明化した二酸化チタンの光触媒層を被覆形成したことを特徴とする有害ガス除去装置。

IPC (3)：

B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/86 ,  B01D 53/94

FI (4)：

B01D 53/36 ZAB Z ,  B01D 53/36 C ,  B01D 53/36 D ,  B01D 53/36 101 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• メタノール合成装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-185234   Applicant：株式会社竹中工務店